14．华为手机麒麟9000型芯片是5nm制作工艺，光刻机是芯片制造的核心设备之一。光刻机通过一系列的光源能量，将光束透射过画着线路图的掩模，用透镜将线路图成比例缩小后映射到涂有化学层的硅片上，受到光线照射的部分，可以被冲洗掉，在硅片上就得到了掩膜上的电路图。芯片的制作过程需要用较大能量光子的光照射，应选用的光源是（ ）
A．波长长的光源 B．频率大的光源
C．强度小的光源 D．强度大的光源
15．氢原子第n能级的能量绝对值为En= ，其中E1是基态能量的绝对值，而量子数n=1，2，3…。假设通过电场加速的电子轰击氢原子时，电子全部的动能被氢原子吸收，使氢原子从基态跃迁到激发态，则使电子加速的电压至少为（e为电子所带的电荷量的绝对值）（ ）
A． B． C． D．
16．如图所示，为某金属在光的照射下，逸出的光电子的最大初动能 与入射光频率 的关系图像，普朗克常量h为已知，由图像可知（ ）
A．该金属的逸出功等于
B．普朗克常量 =
C．入射光的频率为 时，逸出的光电子的最大初动能为
D．当入射光的频率 大于 时，若 增大一倍，则光电子的最大初动能也增大一倍
